Quelles sont les différences entre un masqueur ou un aligneur de masque de la gamme UV-KUB et un système d'écriture directe laser de la gamme Dilase ?

Kloé vous propose deux gammes de produits : tandis que nos masqueurs et aligneurs de masque de la gamme UV-KUB sont utilisés pour des procédés de lithographie par masquage, nos équipements sans masque de la gamme Dilase bénéficient d'un mode d'écriture vectoriel ce qui permet l'écriture directement dans des couches de résine fines ou épaisses.

Le choix d’un équipement de la gamme UV-KUB est guidé par la volonté de mener des travaux de lithographie en utilisant des masques

Principaux avantages :

  • réalisation simultanée et rapide de motifs/composants sur une même surface de travail.
  • équipements plug and play : ne nécessitent pas d'intervention extérieure pour leur installation
  • n'ont pas besoin d'être utilisés dans une salle blanche, grâce à leur structure hermétique à la poussière

Le choix d’un équipement de la gamme Dilase correspond à un besoin de disposer d’un outil particulièrement adapté pour du prototypage rapide à moindre frais

C’est également une volonté de pouvoir structurer des épaisseurs de résine pouvant varier de quelques centaines de nanomètres à plusieurs centaines de microns avec des flancs droits en toute circonstance.

Principaux avantages :

  • technologie sans masque, très adaptée au prototypage rapide et au développement de nouvelles fonctions à moindre frais
  • technologie de microfabrication compatible avec la structuration de résines très épaisses (profondeur de champ importante)
  • technologie de microstructuration à très haute résolution (<0.5µm)
  • fabrication de vos propres masques

Les aligneurs de masque et les équipements d’écriture directe laser offrent tous les deux des avantages, selon vos besoins et vos objectifs

Si un aligneur de masque est limité en terme de changement de design (design figé par le masque), il offre cependant une vitesse de fabrication supérieure à un système d’écriture directe laser.

Cependant, un équipement de lithographie sans masque offre de meilleures résolutions et une plus grande profondeur de champ qu’un système d’alignement de masque. De plus, il offre bien plus de flexibilité qu’un aligneur de masque.

Contactez-nous si vous avez des questions concernant le choix de votre équipement de lithographie : nous vous aiderons à trouver la machine la plus adaptée à vos besoins.

 

Voir notre gamme de masqueurs et aligneurs de masque : la gamme UV-KUB

Voir notre gamme d'équipements d'écriture directe laser : la gamme Dilase