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Secteurs de la photolithographie :
Optique et photonique

Optique et photonique

Les deux créateurs de la société Kloé sont à l’origine des chercheurs en photonique.

La technologie Dilase a été développée, à l’origine, pour la fabrication de circuits optiques intégrés dédiés aux marchés des télécoms et des capteurs optiques. De ce fait, nos équipements s’adressent de façon naturelle et implicite à cette communauté scientifique et industrielle. A titre d’exemple de collaboration active dans ce secteur, Kloé a travaillé plus de 10 ans avec et pour Essilor International.

Les principales spécifications requises, pour fabriquer des fonctions optiques intégrées, sont :

  • La résolution et son homogénéité sur de grandes surfaces,
  • Une extrême finesse des bords d’écriture
  • La capacité à matérialiser des structurations en niveaux de gris présentant une très faible rugosité de l’ordre de la dizaine de nanomètre.

Kloé a développé initialement le mode vectoriel pour la fabrication de guides d’ondes optiques, car l’écriture par une technique de raster scan induit intrinsèquement une trop forte rugosité incompatible avec le guidage de la lumière sans pertes de propagation excessives. Les équipements Dilase sont équipés de tête d’écriture de très haute résolution offrant une grande profondeur de champ. Cela garantit une grande stabilité et une grande homogénéité de la largeur de trait le long de toutes les trajectoires. Enfin, grâce au mode vectoriel et à la grande profondeur de champ, l’utilisateur de la technologie Dilase bénéficie d’un nombre illimité de niveaux de gris simplement en modulant, en temps réel, la vitesse d’écriture et la puissance du laser.