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Photolithographie laser et led uv :
La structuration de surface

La structuration de surface pour en modifier ou adapter les propriétés physico-chimiques nécessite de plus en plus de résolution.

Les méthodes d’usinage par gravure mécanique ou par laser, ne sont plus suffisamment précises aujourd’hui.

La photolithographie par laser offre de nouvelles perspectives en permettant de gagner jusqu’à un ordre de grandeur par rapport aux technologies classiques et ainsi d’atteindre des micros et nanostructures à haut rapport d’aspect.

Ainsi, avec la technologie Dilase il est possible de modifier les propriétés d’une surface par simple lithographie d’une couche ou même directement de la surface. Une surface peut devenir hydrophobe grâce à la fabrication d’une matrice de microplots à haut rapport d’aspect (1x20 et plus), ou bien hydrophile en modifiant les propriétés d’adhérence de la surface.

Une multitude de fonctions de surface peut être obtenue grâce à des structures à haut rapport de forme, qui constituent une des spécificités de nos équipements Dilase. Ces systèmes sont équipés d’une mise en forme du faisceau laser à très grande profondeur de champ.

Aperçu de microfabrications
Aperçu 1
Aperçu 2
Aperçu 3
Aperçu 4
100μm Thick Circles
Cross Section
Curved Microwalls
Hexagonal Micro Wells
High Aspect Ratio - Micropillars
High Aspect Ratio
Matrix of Round Micropillars
Resolution Kub