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Photolithographie laser et led uv :
L’application à niveaux de gris

On appelle application à niveaux de gris en photolithographie, le fait de faire une réticulation partielle de la résine dans son épaisseur.

Pour y parvenir, il est nécessaire de moduler la dose (produit de la puissance lumineuse reçue par la résine par la durée d’exposition). Bien entendu, plus la couche sera épaisse plus le contraste et le nombre de niveaux de gris distincts sera perceptible.

Cependant, la qualité de rendu de la fonction finale réalisée va dépendre de la capacité à juxtaposer des niveaux de gris différents :

  • De manière linéaire : microlentilles ou réseaux blazés.
  • Ou au contraire de manière abrupte : image à saut d’indice ou de phase, lentille de Fresnel.

Il est donc nécessaire que la technologie utilisée soit compatible avec l’écriture dans des couches épaisses aussi bien que dans des couches minces et que le nombre de niveau de gris (nombre de dose possible) ne soit pas limité.

La technologie développée par Kloé sur ses équipements Dilase est parfaitement adaptée. Elle associe grande profondeur de champ (compatibilité avec l’écriture dans des couches épaisses avec le même rendu que dans des couches minces sans modifier le réglage de la focale), mode d’écriture vectoriel et modulation en temps réel de la vitesse d’écriture et de la puissance d’émission du laser. De ce fait, le nombre de niveau de gris est illimité, il varie de manière continue et est contrôlé dans des épaisseurs de résines comprises entre quelques nanomètres et la centaine de microns.

Aperçu de microfabrications
Aperçu 1
Aperçu 2
Aperçu 3
Aperçu 4
Blazed Grating
Blazed Grating
Greyscale Cross Section
Microdot Array
Microlenses
Sinusoidal grating
Fresnel lens
Large Blazed Grating